Минпромторг запускает опытно-конструкторскую разработку «Инспектор» — промышленно-ориентированную установку сканирующего (растрового) электронного измерительного микроскопа (CD‑SEM) для контроля кремниевых пластин диаметром до 200 мм. На проект выделено 2,4 млрд руб., конкурс опубликован 1 июня 2026 года на портале госзакупок. В техзадании эталонами указаны Hitachi CD‑SEM S‑9380 и Hitachi CG4000, чьи поставки заблокированы санкциями.
Что именно создают: задачи, диаметр пластин и функции
Исполнитель должен разработать и изготовить опытный образец установки CD‑SEM для неразрушающего контроля и измерения критических размеров элементов топологического рисунка на поверхности кремниевых пластин диаметром 100, 150 и 200 мм (опытный образец — для 200 мм). Контроль охватывает ширину линий, диаметры контактных отверстий, расстояния между элементами периодических структур, а также шероховатость края линии. По сути, установка должна сканировать и измерять ключевые параметры рисунка слоя, поддерживая стабильность процесса изготовления микросхем и чипов.
Критические узлы — электронная пушка, электронно-оптическая колонна, рабочая камера, вакуумные насосы, механизм загрузки/выгрузки пластин, центральный контроллер системы управления, ПО — предписаны российского производства. Применение импортных критических комплектующих допускается только при обосновании в техническом проекте и при письменном согласовании с Минпромторгом. Работы должны быть завершены до июня 2030 года.
Ключевые параметры проекта «Инспектор»
| Параметр | Требование |
|---|---|
| Назначение | Сканирующий электронный измерительный микроскоп (CD‑SEM) для контроля критических размеров на кремниевых пластинах |
| Диаметр пластин | 100, 150, 200 мм (опытный образец — для 200 мм) |
| Функции измерений | Ширина линий, диаметр контактных отверстий, межэлементные расстояния, шероховатость края линии |
| Критические узлы | Электронная пушка, колонна, камера, вакуум, загрузка, контроллер, ПО — российского происхождения |
| Иностранные аналоги для сравнения | Hitachi CD‑SEM S‑9380, Hitachi CG4000 |
| Бюджет | 2,4 млрд руб. |
| Срок выполнения | До июня 2030 года |
| Код ОКР | «Инспектор» |
Контекст: программа импортозамещения и целевые ориентиры
Проект входит в госпрограмму «Научно-технологическое развитие Российской Федерации». Отдельная программа развития электронного машиностроения до 2030 года предусматривает импортозамещение около 70% оборудования и материалов для производства микроэлектроники при бюджетном финансировании свыше 240 млрд руб. По данным Минпромторга, к 2030–2032 гг. на отечественные предприятия должны быть внедрены 122 российские установки для производства микросхем. CD‑SEM — критический элемент технологической цепочки контроля параметров рисунка, позволяющий поддерживать процесс на высоком уровне качества.
При этом ещё в сентябре 2025 года сообщалось о отставании ряда разработок оборудования от графиков по программе «Электронное машиностроение» из‑за технологической неготовности, дефицита кадров и высокой загруженности предприятий. В МНТЦ МИЭТ заявляли о переносе старта части ОКР с 2025 на 2026 год и о фокусе на пластинах 200 мм вместо 300 мм в условиях ограниченного финансирования. Эксперты предупреждали: годовая задержка в сложных проектах может вырасти до 2–4 лет.
Хронология и процедура: конкурс и сроки
Электронный конкурс по 44‑ФЗ на ОКР «Разработка и изготовление опытного образца промышленно‑ориентированной установки CD‑SEM … диаметром до 200 мм», шифр «Инспектор», размещён на электронной площадке. Конкурс опубликован 1 июня 2026 года. В составе документации — проект контракта, описание объекта закупки, требования к заявке и порядок оценки. Исполнение — по месту нахождения исполнителя. Конкурсная часть сопровождается стандартными для госзакупок процедурами и обеспечением, включая банковские гарантии.
Единый контур импортозамещения: от эпитаксии до контроля
Параллельно Минпромторг инициировал новые проекты в области эпитаксии, усиливая отечественную производственную базу:
- 1,5 млрд руб. — ОКР «Цитадель»: установка молекулярно‑лучевой эпитаксии (МЛЭ) для создания гетероструктур на соединениях индия, алюминия и арсенида галлия с групповой загрузкой пластин 76–100 мм для замены Riber 49 (Франция) и Veeco GEN200 (США). К октябрю 2030 года ожидаются КД с литерой «О1» и опытный образец, способный одновременно обрабатывать не менее 5 пластин 76 мм или 3 пластин 100 мм. В составе — 10 портов для источников пучков с тиглями ≥700 куб. см для галлия, алюминия и индия, вентильный источник мышьяка, газовый источник CBr₄, система дифракции быстрых электронов, анализатор остаточной атмосферы и ИК‑пирометр.
- 463,7 млн руб. — НИР/ОКР «Эпитаксия‑SiGe»: установка для выращивания слоёв кремний‑германия на пластинах 200 мм методом газофазной эпитаксии на замену ASM Epsilon 2000. До июня 2029 года — три макета ключевых узлов: реактор, робот‑загрузчик и модуль сухой химической очистки поверхности пластин.
Оба конкурса требуют российского производства критических комплектующих (вакуумные камеры, насосы, источники, арматура, контроллер, ПО) с возможностью точечного применения импорта по согласованию с Минпромторгом. Это выстраивает технологический контур от создания слоя до измерения критического размера, где CD‑SEM «Инспектор» закрывает задачу метрологического контроля.
Ещё одно звено цепочки: станок для нарезания кремниевых стержней
Минпромторг объявил и конкурс на разработку опытного образца станка для нарезания кремниевых стержней на пластины, необходимых для дальнейшего производства микропроцессоров и других полупроводниковых компонентов. На реализацию выделяется 300 млн руб., приём заявок — до 17 сентября, опытный образец — к 30 ноября 2026 года. В качестве аналогов указаны Meyer Burger (Швейцария), Linton Kayex (КНР) и Diamond Wire Technologies (США).
Станок должен обеспечивать отсечение конусов и нарезание заготовок из кремниевых и германиевых стержней диаметром до 300 мм, а также полуфабрикатов из синтетического сапфира, кварца и арсида галлия до 150 мм. Этот тип оборудования базовый для технологической цепочки. Ожидаемая область применения — предприятия, выращивающие монокристаллы (кремний, германий, сапфир, кварц, карбид кремния), а также обработка «солнечного» кремния диаметром до 300 мм; для более дорогих материалов, например германия, предусмотрена вторая модификация.
Спрос на пластины и контроль качества: зачем это рынку
Независимые эксперты указывают, что пользователями такого оборудования станут предприятия, выпускающие или планирующие выпуск пластин для микроэлектронного производства. В числе потенциальных потребителей пластин диаметром до 300 мм назывались компании, которые уже ранее объявляли планы увеличивать обработку пластин по техпроцессам 180–90 нм в 2 раза — с 3000 до 6000 единиц в месяц (сообщалось в 2022 году). Для них контроль критических размеров — обязательная часть процесса, где растровый электронный микроскоп обеспечивает измерение параметров рисунка и стабильность технологии.
Глобальный фон: рынок электронных микроскопов растёт
Мировой рынок электронных микроскопов в 2025 году превысил 5,43 млрд долл., оценка на 2026 год — 5,83 млрд долл., а к 2035 году прогнозируется 11,83 млрд долл. при среднегодовом темпе около 8,1%. Рост подпитывают развитие нанотехнологий и миниатюризация компонентов, в том числе в производстве полупроводников, где требуется получение изображения высокого разрешения и контроль процесса. Это усиливает технологический тренд на использование сканирующих электронных микроскопов в микроэлектронике.
Что это означает для отрасли
Запуск ОКР «Инспектор» закрывает критическую позицию контроля параметров кремниевых пластин диаметром до 200 мм, совпадая с текущим фокусом промышленности на этой размерности подложек. Связка проектов Минпромторга — от нарезки слитков, через эпитаксиальные установки до CD‑SEM — формирует последовательную линию импортонезависимого оборудования. При условии соблюдения сроков это позволит использовать российские установки в большем числе производственных участков, повышая технологическую автономность. С учётом отмеченных в 2025 году рисков затяжек по части ОКР, временные буферы и приоритизация 200 мм выглядят прагматично для рынка, где спрос на измерительные установки и оборудование высок.
Частые вопросы
Сколько средств выделено на создание микроскопа и на что именно?
Выделено 2,4 млрд руб. на ОКР по разработке и изготовлению опытного образца промышленно-ориентированной установки CD‑SEM для контроля критических размеров на полупроводниковых пластинах диаметром до 200 мм.
Какие аналоги указаны в техзадании для сравнения?
Японские установки Hitachi CD‑SEM S‑9380 и Hitachi CG4000.
Какие диаметры пластин поддержит установка?
Предусмотрен контроль пластин диаметром 100, 150 и 200 мм, при этом опытный образец создаётся в исполнении для 200 мм.
Какие критические компоненты должны быть российского производства?
Электронная пушка, электронно-оптическая колонна, рабочая камера, вакуумные насосы, механизм загрузки/выгрузки пластин, центральный контроллер системы управления и программное обеспечение.
Срок выполнения работ по «Инспектору»?
Работы должны быть выполнены до июня 2030 года.
Какие ещё проекты импортозамещения оборудования запущены?
Минпромторг инициировал проекты по эпитаксии: 1,5 млрд руб. на МЛЭ‑установку «Цитадель» (76–100 мм) и 463,7 млн руб. на «Эпитаксия‑SiGe» (200 мм), а также конкурс на станок для нарезания стержней на пластины с бюджетом 300 млн руб.
Позиция экспертов Реестр Гарант
Жёсткое требование к российскому происхождению критических узлов CD‑SEM и эпитаксиальных установок логично вписывается в курс на импортозамещение: оно минимизирует зависимости и упрощает тиражирование оборудования на площадках. Фокус на 200‑мм пластинах соответствует текущим возможностям и графикам: по данным 2025 года, переносы стартов ОКР и кадровые ограничения повышают риски, и приоритизация зрелых размерностей повышает шанс вовремя получить работающие образцы.
